半导体制作工艺可分为前端和后端:前端主要是晶圆制作和光刻(在晶圆上绘制电路);后端主要是芯片的封装。随着前端工艺微细化技术逐渐达到极限,后端工艺的重要性愈发突显。作为可以创造新附加价值的核心突破点,其技术正备受瞩目。
介绍半导体的特征及工艺:“计算机与晶体管(Computers and Transistors)”、“工艺与氧化(Process and Oxidation)”、“光刻(Photolithography)”、“蚀刻(Etching)”、“沉积(Deposition)”和“金属布线(Metal Wiring)”。这些文章着重于说明技术之间的相关性。
晶圆经过测试后,首先要经过背面研磨(Backgrinding),以达到所需厚度;然后进行晶圆切割(Wafer Sawing),将晶圆切割成芯片;选择质量良好的芯片,通过芯片贴装(Die Attach)工艺将芯片连接到引线框架或基板上;之后通过引线键合(Wire Bonding)的方式实现芯片与基板之间的电气连接;最后使用环氧树脂模塑料(EMC)进行密封保护。引线框架封装和基板封装在前半部分流程中均采用上述步骤。
在后半部分流程中,引线框架封装采用如下步骤:通过切筋(Trimming)1的方式将引线分离;通过电镀(Solder Plating)将锡球置放至引线末端;最后是成型(Forming)工艺,成型工艺将封装分离为独立单元,并弯曲引线,以便将它们连接到系统板上。而对于基板封装,则是在进行植球(Solder Ball Mounting),即锡球被焊接在基板焊盘上之前,先完成模塑;之后进行切割,成为独立封装,也可称之为切单(Singulation)。接下来的内容中,将阐述传统封装方法的组装工艺,并重点介绍基板封装的八个步骤。
最后,欣赏一下芯片宏观到微观的照片。
内存芯片放大到100nm的模拟动画
文章列表:
半导体前端工艺|第一篇:计算机、晶体管的问世与半导体
半导体前端工艺|第二篇:半导体制程工艺概览与氧化
半导体前端工艺|第三篇:光刻——半导体电路的绘制
半导体前端工艺|第四篇:刻蚀——有选择性地刻蚀材料,以创建所需图形
半导体前端工艺|第五篇:沉积——“更小、更多”,微细化的关键
半导体前端工艺|第六篇(完结篇):金属布线——为半导体注入生命的连接
半导体后端工艺|第一篇:了解半导体测试
半导体后端工艺|第二篇:半导体封装的作用、工艺和演变
半导体后端工艺|第三篇:了解不同类型的半导体封装
半导体后端工艺|第四篇:了解不同类型的半导体封装(第二部分)
半导体后端工艺|第五篇:封装设计与分析
半导体后端工艺|第六篇:传统封装方法组装工艺的八个步骤
半导体后端工艺|第七篇:晶圆级封装工艺
半导体后端工艺|第八篇:探索不同晶圆级封装的工艺流程
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